VK69

VK69 предназначен для использования на последних полках аппаратов двойного контактирования. В газе с низкой концентрацией SO₂ после после промежуточной абсорбции, уникальный состав катализатора VK69 обеспечивает непревзойденно высокую активность во всем диапазоне рабочих температур. Это позволяет значительно сократить выбросы SO₂ и/или увеличить производительность существующих установок. В случае новых или модернизированных установок возможно снижение выбросов SO₂ до уровня ниже 50 ppm. Использование цезия в качестве промотора обеспечивает VK69 крайне низкую температуру зажигания/активации, что сокращает время предварительного разогрева и повышает характеристики пуска. VK69 имеет уникальную форму 9 мм Цветка. Большая площадь поверхности обеспечивает высокую активность в газовой среде, а большая доля свободного объема обеспечивает низкий перепад давления и хорошую стойкость к действию пыли.

Преимущества

• возможность сокращения выбросов SO₂ на более чем 50% для существующих аппаратов двойного контактирования
• возможность значительного повышения производительности без увеличения выбросов SO₂
• возможность снижения выбросов SO₂ до уровня 50 ppm для новых или модернизированных установок, тогда как низкая температура зажигания обеспечивает более быстрые и чистые запуски
• продолжительный срок службы и низкие потери при просеивании подтверждены опытом промышленного применения с 1996 г.

Низкая температура зажигания

VK59 и VK69 имеют исключительно низкую температуру зажигания/активации 320 – 330 °C, что позволяет ускорить пуски и сделать их более чистыми. Горячие пуски могут быть осуществлены после значительно более долгого времени ожидания без предварительного прогрева.

Форма 9 мм Цветка

VK69 имеет уникальную форму 9 мм Цветка. В газе с низким содержанием SO₂ после промежуточной абсорбционной башни комбинация размера 9 мм и формы Цветка дает повышение активности на 30% по сравнению с 12 мм Цветком, частично благодаря большей площади поверхности. Кроме того, форма Цветка обеспечивает исключительно низкий перепад давления. Большая площадь поверхности 9 мм Цветка обеспечивает высокую активность, а большая доля свободного объема обеспечивает низкий перепад давления.